全自动CIP在位清洗系统清洗程序、技术要求

发布时间：2017-08-17 关注次数：

全自动CIP在位清洗系统清洗程序　
下面是以饮料行业为例，全自动CIP在位清洗系统清洗程序如下：
1、洗涤3—5分钟，常温或60℃以上的热水；碱洗10—20分钟，1%—2%溶液，60℃—80℃；中间洗涤5—10分钟，60℃以下的清水；再洗涤3—5分钟，清水。
2、洗涤3—5分钟，常温或60℃以上的热水；碱洗5—10分钟，1%—2%溶液，60℃—80℃，中间洗涤5—10分钟，60℃以下的清水，杀菌10—20分钟，90℃以上的热水。
清洗流量保证流量实际上是为了保证清洗时的清洗液流速，从而产生一定的机械作用，即通过提高流体的湍动性来提高冲击力，取得一定的清洗效果。
全自动CIP在位清洗系统技术要求
1、文件支持：可提供设备结构尺寸图纸（PDF）、使用说明书等。
2、按使用功能要求，分别采用如下标准设计、制造、检验：
A、《药品生产质量管理规范（1998年修订版）》第四章第31-37条款；
B、《钢制压力容器（GB150-1998）》；
C、《钢制焊接常压容器（JB/T4735-1997）》；
D、《食品机械安全卫生（GB16798-1997）》。

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